CVD SiC bevonatú ostyahordó tartó

A fém szerves kémiai gőzleválasztás (MOCVD) jelenleg a legforróbb epitaxiális növekedési technológia, amelyet széles körben használnak félvezető lézerek és LED-ek, különösen a GaN epitaxia gyártásában. Az epitaxia egy másik egykristály film növekedését jelenti egy kristályhordozón. Az epitaxiás technológia biztosíthatja, hogy az újonnan növesztett kristályfilm szerkezetileg illeszkedjen az alatta lévő kristályhordozóhoz. Ez a technológia lehetővé teszi speciális tulajdonságokkal rendelkező filmek növesztését a hordozón, ami elengedhetetlen a nagy teljesítményű félvezető eszközök gyártásához.

Az ostyahordó tartó az epitaxiális növesztő kemence kulcsfontosságú eleme. A CVD SiC bevonatú ostyatartót széles körben használják különféle CVD epitaxiális növesztőkemencékben, különösen a MOCVD epitaxiális növesztőkemencékben.

Funkciók és feCVD SiC bevonatú ostya hordótartó tulajdonságai

● Aljzatok szállítása és melegítése: A CVD SiC bevonatú hordó szuszceptor a hordozók hordozására és a szükséges fűtés biztosítására szolgál a MOCVD folyamat során. CVD SiC bevonatú ostya A hordótartó nagy tisztaságú grafitból és SiC bevonatból áll, és kiváló teljesítményt nyújt.

● Egyenletesség: A MOCVD folyamat során a Graphite Barrel tartó folyamatosan forog az epitaxiális réteg egyenletes növekedése érdekében.

● Hőstabilitás és termikus egyenletesség: A SiC Coated Barrel Susceptor SiC bevonata kiváló hőstabilitással és hő egyenletességgel rendelkezik, ezáltal biztosítja az epitaxiális réteg minőségét.

● Kerülje a szennyeződést: A CVD SiC bevonatú ostya hordótartó kiváló stabilitással rendelkezik, így nem okoz működés közben lehulló szennyeződéseket.

● Ultra hosszú élettartam: A SiC bevonat miatt a CVD SiC Coated BAz arrel Susceptor továbbra is elegendő tartóssággal rendelkezik a MOCVD magas hőmérsékletű és korrozív gázkörnyezetében.

A Barrel CVD reaktor vázlata

A VeTek Semiconductor CVD SiC bevonatú ostya hordótartójának legnagyobb jellemzője

● A legmagasabb fokú testreszabhatóság: A grafit szubsztrát anyagösszetétele, a SiC bevonat anyagösszetétele és vastagsága, valamint az ostyatartó szerkezete mind személyre szabható az ügyfél igényei szerint.

● Más beszállítók előtt lenni: A VeTek Semiconductor SiC bevonatú grafithordós szuszceptor EPI-hez is testreszabható az ügyfelek igényei szerint. A belső falon összetett mintákat készíthetünk a vásárlói igények kielégítésére.

Megalakulása óta a VeTek Semiconductor elkötelezett a SiC bevonat technológia folyamatos feltárása mellett. Napjainkban a VeTek Semiconductor az iparág vezető SiC bevonattermékével rendelkezik. A VeTek Semiconductor alig várja, hogy partnere lehessen a CVD SiC bevonatú ostya hordótartó termékekben.

A CVD SIC BEVONATÓ FILM KRISTÁLYSZERKEZETE SEM ADATAI

A CVD SiC bevonat alapvető fizikai tulajdonságai