CVD SiC bevonatú grafit szuszceptor

A VeTek Semiconductor CVD SiC bevonatú grafit szuszceptor a félvezetőipar egyik fontos összetevője, mint például az epitaxiális növekedés és az ostyafeldolgozás. A MOCVD-ben és más berendezésekben használják ostyák és más nagy pontosságú anyagok feldolgozásának és kezelésének támogatására. A VeTek Semiconductor Kínában vezető SiC bevonatú grafit szuszceptor és TaC bevonatú grafit szuszceptor gyártási és gyártási képességekkel rendelkezik, és várja konzultációját.

Kérdés küldése

termékleírás

A CVD SiC bevonatú grafit szuszceptort kifejezetten a félvezetőipar nagy pontosságú gyártásához tervezték. A grafit szubsztrátumot CVD eljárással nagy tisztaságú SiC réteggel vonják be, amely kiváló magas hőmérsékleti ellenállással, korrózióállósággal és oxidációállósággal rendelkezik, és hosszú ideig stabilan működik magas hőmérsékletű és vákuum környezetben. Ezt a talapzatot széles körben használják MOCVD-ben, PECVD-ben, PVD-ben és más berendezésekben, amelyek támogatják az ostyák és más nagy pontosságú anyagok feldolgozását és kezelését.

Alapvető előnyei:

● Magas hőmérsékleti stabilitás: Maga a nagy tisztaságú grafit kiváló termikus stabilitással rendelkezik. SiC bevonattal való bevonása után ellenáll a magasabb hőmérsékletű szélsőséges környezeti hatásoknak, és alkalmas a félvezető feldolgozás magas hőmérsékletű folyamataira.
● Corrosionellenállás: A CVD SiC bevonat ellenáll a savas és lúgos korróziónak, és hosszú élettartamú lehet a CVD folyamatban.
● Magas hkeménység és oxidációállóság: A CVD SiC bevonat kiváló keménységgel, karcállósággal és magas hőmérsékleten ellenálló oxidációval rendelkezik, hogy megőrizze az anyag stabilitását.
● Jó hővezető képesség: A grafit szubsztrát és a CVD SiC bevonatú szuszceptor kombinációja kiváló hővezető képességet biztosít az alapnak, amely hatékonyan vezeti a hőt és javítja a termelés hatékonyságát.

Termékleírások:

● Anyag: grafit hordozó + CVD SiC bevonat
● Bevonat vastagsága: az ügyfél igényei szerint testreszabható
● Alkalmazható környezet: magas hőmérséklet, vákuum, korrozív gázkörnyezet

Személyre szabott szolgáltatás:

Nagymértékben személyre szabott szolgáltatásokat nyújtunk az ügyfelek különféle berendezései és folyamatai igényeinek kielégítésére. A megrendelő egyedi alkalmazásának megfelelően különböző bevonatvastagságú, felületkezelési és pontossági szintű grafit alapok is biztosíthatók.

A VeTekSemi mindig is a CVD szilícium-karbid bevonat iparban dolgozott, és az iparágban vezető CVD SiC bevonatú grafit gyártási és gyártási szinttel rendelkezik. Ha további termékinformációra vagy személyre szabott szolgáltatásokra van szüksége, kérjük, forduljon a VeTek Semiconductorhoz, mi teljes szívből professzionális támogatást nyújtunk Önnek.