Félvezető kerámia fúvóka

A félvezető kerámia fúvóka fontos szerepet játszik aHDP-CVD folyamat, a gázáramlás pontos szabályozására és biztosítására szolgálkiváló minőségű filmlerakás. A kerámia fúvóka spray-t pontosan úgy tervezték, hogy egyenletes és szabályozható gázáramlási sebességet biztosítson, minimalizálva a lehetséges turbulenciát, amikor a gáz belép a reakciókamrába.

Műszaki előírások:

1. Anyagösszetétel:

A VeTeK Semiconductor Ceramic homokfúvó fúvóka általában félvezető kerámiából készül, például alumínium-oxidból (Al2O3),szilícium-karbid (SiC)vagy cirkónium-oxid (ZrO2), ezek az anyagok kiváló tulajdonságokkal rendelkeznek:

    • magas hőstabilitás (1000 ℃ feletti hőmérsékletnek is ellenáll)

    • ellenállás a felhasznált reaktív gázok által okozott korrózióval szembenCVD folyamatok(például szilán, ammónia)

    • ellenáll a folyamatos plazmaexpozíciónak.

2. Szerkezeti tervezés:

    • A nyílás mérete: A Semiconductor kerámia fúvóka nyílása tudományosan úgy lett kialakítva, hogy lehetővé tegye a gázáramlás pontos szabályozását, ami viszont befolyásolja a film egyenletességét és vastagságát.

    • Szögek és geometriák: Pontosan úgy tervezték, hogy egyenletes gázeloszlást biztosítson a hordozón, minimálisra csökkentve a lerakódott réteg hibáit.

A félvezetőiparban a Semiconductor kerámia fúvóka elsősorban a HDP-CVD folyamatban játszik kulcsszerepet. Vékony filmrétegek felhordására is használják mikroelektronika gyártásához, így biztosítva a kiváló minőségű, egyenletes és szennyeződésektől mentes felületi bevonatokat.

VeTeK félvezető kerámia fúvókák üzletei: