Kína Szilícium-nitrid Gyártó, szállító, gyár

A VeTek Semiconductor a szilícium-nitrid gyártására összpontosít, és vezető szakértőkből és kiváló műszaki tehetségekből álló kutató-fejlesztő csapattal rendelkezik. A szilícium-nitrid kerámiák a keménység, a hőállóság, a kopásállóság és a korrózióállóság előnyeivel rendelkeznek az általános kerámiaanyagokban, valamint jó hősokkállóság, magas hőmérsékleti kúszásállóság, jó önkenés és jó kémiai stabilitás, és széles körben elterjedt. új energetikai, vegyipari, repülési és félvezetői területeken használják.

A VeTek Semiconductor szilícium-nitrid anyagai a következő kiemelkedő előnyökkel rendelkeznek:

1. Kiváló kémiai stabilitás

A szilícium-nitrid kerámiák kiváló kémiai stabilitással rendelkeznek, és ellenállnak a különféle erős savaknak, lúgoknak és korrozív gázoknak. A félvezető gyártási folyamatban gyakran korrozív vegyi anyagokkal kell foglalkozni, a szilícium-nitrid kerámiák hosszú távú stabil teljesítménygaranciát nyújthatnak.

2. Kiváló mechanikai tulajdonságok

A szilícium-nitrid kerámiák nagy keménységgel, kiváló nyomószilárdsággal és kopásállósággal rendelkeznek, ellenállnak a mechanikai igénybevételnek és a felületi kopásnak, nem könnyen deformálódnak vagy szakadnak. Ez a mechanikai tulajdonság nagyon alkalmassá teszi félvezető berendezések szerkezeti és folyamatelemeinek anyagaként.

3. Magas hőmérsékleti stabilitás

A szilícium-nitrid kerámiák képesek megőrizni a stabilitást magas hőmérsékletű környezetben, nem könnyű meglágyítani vagy megolvadni, és ellenállnak a magas hőmérsékletű feldolgozásnak és kezelésnek a félvezető gyártási folyamatban. Ez lehetővé teszi a magas hőmérsékletű technológiai berendezések kulcsfontosságú alkatrészeinek, például megfogók, reakciókamra-alkatrészek és így tovább gyártásához.

4. Kiváló szigetelő tulajdonságok

A szigetelési tulajdonságok kritikusak a félvezető eszközök gyártásában. A szilícium-nitrid kerámiák jó szigetelő tulajdonságokkal rendelkeznek, amelyek hatékonyan elszigetelik és megvédik az áramköri alkatrészeket az áramszivárgástól vagy az elektromágneses interferenciától, segítve az eszköz stabilitásának és megbízhatóságának javítását.

5. Hővezetőképesség és hővezetőképesség

A szilícium-nitrid kerámiák magas hővezető képességgel rendelkeznek, hatékonyan vezetik és elvezetik az eszköz által termelt hőt, segítve az eszköz hőmérséklet-stabilitásának fenntartását a működési folyamat során. Ez kritikus a félvezető eszközök nagy teljesítményű működése szempontjából.

A VeTek Semiconductor szilícium-nitrid anyagainak alkalmazása a napelem- és félvezetőiparban főként a következőket tartalmazza:

1. Elektrosztatikus tokmányok és maratókamra alkatrészei

A szilícium-nitrid kerámiákat gyakran használják elektrosztatikus tokmányok és maratókamra-alkatrészek anyagaként a félvezetőgyártásban, kiváló kémiai stabilitásuk és magas hőmérséklet-állóságuk miatt. Az elektrosztatikus tokmányok az ostyák vagy hordozók rögzítésére és stabilizálására szolgálnak, míg a maratókamra alkatrészei a korrozív gázoknak és a magas hőmérsékletű környezetnek ellenállnak.

2. gázelosztó lemezek és reflektorok

A szilícium-nitrid kerámiát a gázelosztó lemezek és reflektorok félvezető berendezéseinek gyártásához is használják. A gázelosztó lemezek a reaktív vagy védőgázok egyenletes eloszlására szolgálnak a reakciókamrában, míg a reflektorok a fény eloszlásának és visszaverődésének optimalizálására szolgálnak a reakciókamrában a reakció hatékonyságának és egyenletességének javítása érdekében.

3. Tartók és termikus alkatrészek

A szilícium-nitrid kerámiákat gyakran használják tartóként és hőkezelési komponensként a félvezetőgyártó berendezésekben. Ezeknek az alkatrészeknek jó mechanikai szilárdsággal, kopásállósággal és hővezető képességgel kell rendelkezniük, hogy biztosítsák a berendezés stabil működését és az eszköz feldolgozási pontosságát.

4. Kémiai mechanikai polírozó (CMP) párnák

A szilícium-nitrid kerámiát széles körben használják alátétanyagként a kémiai mechanikai polírozási (CMP) folyamatban. Kiváló lapossággal és kopásállósággal rendelkezik, és stabil támogatást nyújt a polírozási folyamat során, hogy biztosítsa a félvezető lapka felületének síkságát és pontosságát.