Mi a különbség a CVD TaC és a szinterezett TaC között?

1. Mi a tantál-karbid?

A tantál-karbid (TaC) tantálból és szénből álló kettős vegyület, amelynek tapasztalati képlete TaCX, ahol X általában 0,4 és 1 között változik. Nagyon kemény, törékeny fémes, vezetőképes tűzálló kerámia anyagok. Barnásszürke porok, általában szinterezve. Fontos fémkerámiaanyagként a tantál-karbidot a kereskedelemben forgácsolószerszámokhoz használják, és néha volfrám-karbidötvözetekhez is adják.

1. ábra Tantál-karbid nyersanyagok

A tantál-karbid kerámia olyan kerámia, amely hét tantál-karbid kristályos fázist tartalmaz. A kémiai képlet a TaC, az arc-központú köbös rács.

2. ábra.Tantál-karbid – Wikipédia

Elméleti sűrűsége 1,44, olvadáspontja 3730-3830 ℃, hőtágulási együtthatója 8,3 × 10-6, rugalmassági modulusa 291 GPa, hővezető képessége 0,22 J/cm·S·C, és a tantál-karbid csúcsolvadáspontja kb. 3880 ℃, a tisztaságtól és a mérési körülményektől függően. Ez az érték a legmagasabb a bináris vegyületek között.

3. ábra.Tantál-karbid kémiai gőzleválasztása a TaBr5&ndash-ban

2. Milyen erős a tantál-karbid?

Egy sor minta Vickers-keménységének, törési szívósságának és relatív sűrűségének vizsgálatával megállapítható, hogy a TaC 5,5 GPa hőmérsékleten és 1300 ℃-on a legjobb mechanikai tulajdonságokkal rendelkezik. A TaC relatív sűrűsége, törési szilárdsága és Vickers-keménysége rendre 97,7%, 7,4 MPam1/2 és 21,0 GPa.

A tantál-karbidot tantál-karbid-kerámiának is nevezik, amely tágabb értelemben egyfajta kerámiaanyag;a tantál-karbid előállítási módszerei közé tartozikCVDmódszer, szinterezési módszerstb. Jelenleg a CVD-módszert gyakrabban használják félvezetőkben, nagy tisztasággal és magas költségekkel.

3. A szinterezett tantál-karbid és a CVD-tantál-karbid összehasonlítása

A félvezetők feldolgozási technológiájában a szinterezett tantál-karbid és a kémiai gőzfázisú leválasztás (CVD) a tantál-karbid két elterjedt módszer a tantál-karbid előállítására, amelyek jelentős különbségeket mutatnak az előállítási folyamatban, a mikroszerkezetben, a teljesítményben és az alkalmazásban.

3.1 Az előkészítés folyamata

Szinterezett tantál-karbid: A tantál-karbid port magas hőmérsékleten és nagy nyomáson szinterelik, hogy formát alakítsanak ki. Ez a folyamat magában foglalja a por tömörítését, a szemcsék növekedését és a szennyeződések eltávolítását.

CVD tantál-karbid: A tantál-karbid gáznemű prekurzort a fűtött szubsztrátum felületén történő kémiai reakcióhoz használják, és a tantál-karbid film rétegről rétegre kerül lerakódásra. A CVD eljárás jó filmvastagság szabályozási képességgel és összetétel egyenletességgel rendelkezik.

3.2 Mikrostruktúra

Szinterezett tantál-karbid: Általában polikristályos szerkezet, nagy szemcseméretű és pórusokkal. Mikroszerkezetét olyan tényezők befolyásolják, mint a szinterezési hőmérséklet, nyomás és a por jellemzői.

CVD tantál-karbid: Általában egy sűrű polikristályos film, kis szemcseméretű, és erősen orientált növekedést érhet el. A film mikroszerkezetét olyan tényezők befolyásolják, mint a lerakódási hőmérséklet, a gáznyomás és a gázfázis összetétele.

3.3 Teljesítménybeli különbségek

4. ábra: A szinterezett TaC és a CVD TaC teljesítménybeli különbségei

3.4 Alkalmazások

Szinterezett tantál-karbid: Nagy szilárdsága, nagy keménysége és magas hőmérséklet-állósága miatt széles körben használják vágószerszámokban, kopásálló alkatrészekben, magas hőmérsékletű szerkezeti anyagokban és egyéb területeken. Például a szinterezett tantál-karbid felhasználható vágószerszámok, például fúrók és marók gyártására a feldolgozás hatékonyságának és az alkatrészfelület minőségének javítása érdekében.

CVD tantál-karbid: Vékonyréteg-tulajdonságai, jó tapadása és egyenletessége miatt széles körben használják elektronikai eszközökben, bevonóanyagokban, katalizátorokban és más területeken. Például a CVD-tantál-karbid használható integrált áramkörök, kopásálló bevonatok és katalizátorhordozók összekapcsolásaként.

-------------------------------------------------- -------------------------------------------------- -------------------------------------------------- -------------------------------------------------- -------------------------------------------------- ------------------------------

Tantál-karbid bevonat gyártóként, szállítóként és gyárként a VeTek Semiconductor a tantál-karbid bevonóanyagok vezető gyártója a félvezetőipar számára.

Fő termékeink közé tartozikCVD tantál-karbid bevonatú alkatrészek, szinterezett TaC bevonatú alkatrészek SiC kristálynövekedéshez vagy félvezető epitaxiás folyamatokhoz. Fő termékeink a tantál-karbid bevonatú vezetőgyűrűk, TaC bevonatú vezetőgyűrűk, TaC bevonatú félhold alkatrészek, tantál-karbid bevonatú bolygó forgótárcsák (Aixtron G10), TaC bevonatú tégelyek; TaC bevonatú gyűrűk; TaC bevonatú porózus grafit; Tantál-karbid bevonatú grafit szuszceptorok; TaC bevonatú vezetőgyűrűk; TaC tantál-karbid bevonatú lemezek; TaC bevonatú ostya szuszceptorok; TaC bevonatú grafit kupakok; TaC bevonatú blokkok stb., 5 ppm-nél kisebb tisztasággal, hogy megfeleljenek az ügyfelek igényeinek.

5. ábra. A VeTek Semiconductor melegen értékesített TaC bevonattermékei

A VeTek Semiconductor elkötelezett amellett, hogy az iteratív technológiák folyamatos kutatása és fejlesztése révén innovátor legyen a tantál-karbid bevonat iparban. 

Ha érdeklik a TaC termékek, kérjük, forduljon hozzánk közvetlenül.

Mob: +86-180 6922 0752

WhatsAPP: +86 180 6922 0752

E-mail: anny@veteksemi.com