- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
Ipari hírek
Diamond - a félvezetők jövőbeli csillaga
A gyémánt, a potenciális negyedik generációs "végső félvezető" kivételes keménysége, hővezető képessége és elektromos tulajdonságai miatt egyre nagyobb figyelmet kap a félvezető hordozók körében. Míg a magas költségek és a gyártási kihívások korlátozzák a használatát, a CVD az előnyben részesített m......
Olvass tovább
Mi a különbség a szilícium-karbid (SiC) és a gallium-nitrid (GaN) alkalmazások között? - VeTek félvezető
A SiC és a GaN széles sávú félvezetők, amelyek előnyei a szilíciummal szemben, például nagyobb áttörési feszültség, nagyobb kapcsolási sebesség és kiváló hatékonyság. A SiC jobb a nagyfeszültségű, nagy teljesítményű alkalmazásokhoz a nagyobb hővezető képessége miatt, míg a GaN kiváló elektronmobilit......
Olvass tovább
A fizikai gőzfázisú leválasztás (PVD) bevonat elvei és technológiája (2/2) - VeTek Semiconductor
Az elektronsugaras párologtatás az ellenállásfűtéshez képest rendkívül hatékony és széles körben alkalmazott bevonási módszer, amely elektronsugárral melegíti fel a párologtató anyagot, aminek hatására az elpárolog és vékony filmmé kondenzálódik.
Olvass tovább
A fizikai gőzfázisú bevonat elvei és technológiája (1/2) - VeTek Semiconductor
A vákuumbevonat magában foglalja a filmanyag elpárologtatását, a vákuumszállítást és a vékonyréteg-növekedést. A különböző filmanyag-párologtatási módszerek és szállítási eljárások szerint a vákuumbevonat két kategóriába sorolható: PVD és CVD.
Olvass tovább
