A tantál-karbid technológia áttörése, a SiC epitaxiális szennyezés 75%-kal csökkent?

A közelmúltban a német Fraunhofer IISB kutatóintézet áttörést ért el a kutatás-fejlesztés területén.tantál-karbid bevonat technológia, és kifejlesztett egy permetező bevonó megoldást, amely rugalmasabb és környezetbarátabb, mint a CVD leválasztási megoldás, és kereskedelmi forgalomba került.

A hazai vetek félvezető pedig ezen a téren is áttörést ért el, lásd alább a részleteket.

Fraunhofer IISB:

Új TaC bevonat technológia kidolgozása

Március 5-én a média szerint "Összetett félvezető", a Fraunhofer IISB újat fejlesztett kitantál-karbid (TaC) bevonat technológia-Taccotta. A technológiai licenc átkerült a Nippon Kornmeyer Carbon Grouphoz (NKCG), és az NKCG megkezdte a TaC bevonatú grafit alkatrészek biztosítását ügyfelei számára.

A TaC bevonatok előállításának hagyományos módszere az iparban a kémiai gőzleválasztás (CVD), aminek olyan hátrányai vannak, mint a magas gyártási költségek és a hosszú szállítási idő. Ezenkívül a CVD-módszer hajlamos a TaC repedésére is az alkatrészek ismételt melegítése és hűtése során. Ezek a repedések feltárják az alatta lévő grafitot, amely idővel súlyosan lebomlik, és cserére szorul.

A Taccotta újítása az, hogy vízbázisú szórással történő bevonási módszert alkalmaz, amelyet hőmérsékleti kezelés követ, így nagy mechanikai stabilitású és állítható vastagságú TaC bevonatot képez a felületen.grafit szubsztrátum. A bevonat vastagsága 20 mikron és 200 mikron között állítható a különböző alkalmazási követelményeknek megfelelően.

A Fraunhofer IISB által kifejlesztett TaC folyamattechnológia képes beállítani a szükséges bevonattulajdonságokat, például a vastagságot, amint az alább látható, 35 μm és 110 μm között.

Pontosabban, a Taccotta spray bevonat a következő fő jellemzőkkel és előnyökkel rendelkezik:

● Környezetbarátabb: A vízbázisú permetező bevonattal ez a módszer környezetbarátabb és könnyen iparosítható;

● Rugalmasság: A Taccotta technológia alkalmazkodik a különböző méretű és geometriájú alkatrészekhez, lehetővé téve a részleges bevonatot és az alkatrészek felújítását, ami a CVD-ben nem lehetséges.

● Csökkentett tantálszennyezés: Taccotta bevonatú grafitkomponenseket használnak a SiC epitaxiális gyártásban, és a tantálszennyezés 75%-kal csökken a meglévőhöz képest.CVD bevonatok.

● Kopásállóság: A karcolási tesztek azt mutatják, hogy a bevonat vastagságának növelése jelentősen javíthatja a kopásállóságot.

Scratch teszt

A jelentések szerint a technológia kereskedelmi forgalomba hozatalát az NKCG, a nagy teljesítményű grafitanyagok és kapcsolódó termékek biztosítására összpontosító vegyesvállalat támogatta. Az NKCG a jövőben hosszú ideig részt vesz a Taccotta technológia fejlesztésében is. A vállalat megkezdte a Taccotta technológián alapuló grafit alkatrészek biztosítását ügyfelei számára.

A Vetek Semiconductor elősegíti a TaC lokalizációját

2023 elején a vetek félvezető piacra dobta az új generációtSiC kristálynövekedéshőtér anyag-porózus tantál-karbid.

A jelentések szerint a vetek félvezető áttörést hozott a fejlesztésébenporózus tantál-karbidnagy porozitású független technológiai kutatás és fejlesztés révén. Porozitása elérheti a 75%-ot is, amivel nemzetközi vezető szerepet tölt be.