A VeTek Semiconductor nagy tisztaságú szilícium-karbid ostyacsónakja rendkívül tiszta szilícium-karbid anyagból készül, kiváló termikus stabilitással, mechanikai szilárdsággal és vegyszerállósággal. A nagy tisztaságú szilícium-karbid ostyahajót forró zónás alkalmazásokban használják a félvezetőgyártásban, különösen magas hőmérsékletű környezetben, és fontos szerepet játszik az ostyák védelmében, az anyagok szállításában és a stabil folyamatok fenntartásában. A VeTek Semiconductor továbbra is keményen dolgozik a nagy tisztaságú szilícium-karbid ostyahajó innovációján és teljesítményének javításán, hogy megfeleljen a félvezetőgyártás változó igényeinek. Bízunk benne, hogy hosszú távú partnere lehetünk Kínában.
Professzionális gyártóként a VeTek Semiconductor szeretne kiváló minőségű szilícium-karbid ostyahajót kínálni Önnek.
Kiváló hőteljesítmény: A VeTek Semiconductor nagy tisztaságú szilícium-karbid ostyahajója kiváló hőteljesítménnyel rendelkezik, stabil magas hőmérsékletű környezetben, és kiváló hővezető képességgel rendelkezik, lehetővé téve, hogy a környezeti hőmérséklet feletti hőmérsékleten működjenek. Ez teszi a nagy tisztaságú szilícium-karbid ostyacsónakot ideálissá nagy teljesítményű és magas hőmérsékletű tartós alkalmazásokhoz.
Kiváló korrózióállóság: A nagy tisztaságú szilícium-karbid ostyahajó a félvezetőgyártás kulcsfontosságú eszköze, és erősen ellenáll a különböző korrozív anyagokkal szemben. Megbízható hordozóként ellenáll a magas hőmérséklet és a korrózió hatásainak kémiai környezetben, így biztosítja a szilícium-karbid lapkák biztonságos és hatékony feldolgozását. Megbízható hordozóként ellenáll a magas hőmérséklet és a korrózió hatásainak kémiai környezetben, így biztosítja a szilícium-karbid lapkák biztonságos és hatékony feldolgozását.
Méretek integritása: A nagy tisztaságú szilícium-karbid ostyahajó nem zsugorodik a szinterezési folyamat során, megőrzi a méretek sértetlenségét, és kiküszöböli a maradék feszültségeket, amelyek az alkatrészek meghajlását vagy megrepedését okozhatják. Ez lehetővé teszi összetett alakú, pontos méretekkel rendelkező alkatrészek gyártását. Legyen szó félvezető eszközök gyártásáról vagy más ipari területekről, a nagy tisztaságú szilícium-karbid ostyahajó megbízható méretszabályozást biztosít annak érdekében, hogy az alkatrészek megfeleljenek az előírásoknak.
Sokoldalú eszközként a VeTek Semiconductor nagy tisztaságú szilícium-karbid ostyacsónakja számos félvezető-gyártási technológiában alkalmazható, beleértve az epitaxiális növekedést és a kémiai gőzleválasztást. Tartós kialakítása és nem reaktív természete miatt a nagy tisztaságú szilícium-karbid ostyacsónak alkalmas különféle feldolgozási kémiákra, így biztosítva, hogy zökkenőmentesen tudjon alkalmazkodni a különböző feldolgozási környezetekhez.
A félvezetőgyártásban az epitaxiális növesztés és a kémiai gőzleválasztás gyakori folyamatok, amelyeket jó minőségű ostyák és vékony filmek termesztésére használnak. A nagy tisztaságú SiC csónak fontos hordozó szerepet tölt be, amely ellenáll a magas hőmérsékletnek és a vegyszereknek, így biztosítva a pontos növekedési és lerakódási folyamatokat.
A nagy tisztaságú SiC csónak tartós kialakítása mellett nem reaktív is. Ez azt jelenti, hogy nem reagál károsan a feldolgozó vegyszerekkel, ezáltal megőrzi a hajó integritását és teljesítményét. Ez megbízható eszközt biztosít a félvezetőgyártók számára a gyártási folyamat következetességének és ismételhetőségének biztosítására.
Az újrakristályosított szilícium-karbid fizikai tulajdonságai | |
Ingatlan | Tipikus érték |
Üzemi hőmérséklet (°C) | 1600°C (oxigénnel), 1700°C (redukáló környezet) |
SiC tartalom | > 99,96% |
Ingyenes Si tartalom | < 0,1% |
Testsűrűség | 2,60-2,70 g/cm3 |
Látszólagos porozitás | < 16% |
Nyomószilárdság | > 600 MPa |
Hideg hajlítószilárdság | 80-90 MPa (20°C) |
Meleg hajlítószilárdság | 90-100 MPa (1400°C) |
Hőtágulás 1500°C-on | 4,70 10-6/°C |
Hővezetőképesség @1200°C | 23 W/m•K |
Rugalmassági modulus | 240 GPa |
Hőütésállóság | Rendkívül jó |