Porózus kerámia vákuum tokmány

Mint egy professzionális porózus kerámia vákuum tokmány gyártó és szállító Kínában, a Vetek Semiconductor porózus kerámia vákuumtokmány szilícium-karbid kerámia (SiC) anyagból készül, amely kiváló magas hőmérsékleti ellenállással, kémiai stabilitással és mechanikai szilárdsággal rendelkezik. A félvezetőgyártási folyamatban nélkülözhetetlen alapelem. Üdvözöljük további kérdéseit.

Kérdés küldése

termékleírás

A Vetek Semiconductor a porózus kerámia vákuumos tokmány kínai gyártója, amelyet szilícium lapkák vagy más hordozók vákuum-adszorpcióval történő rögzítésére és megtartására használnak, hogy biztosítsák, hogy ezek az anyagok ne mozduljanak el vagy deformálódjanak a feldolgozás során. A Vetek Semiconducto nagy tisztaságú porózus kerámia vákuumtokmány termékeket kínál magas költséghatékonysággal. Üdvözöljük érdeklődni.

A Vetek Semiconductor kiváló porózus kerámia vákuumtokmány termékek sorozatát kínálja, amelyeket kifejezetten úgy terveztek, hogy megfeleljenek a modern félvezetőgyártás szigorú követelményeinek. Ezek a hordozók kiváló teljesítményt mutatnak a tisztaság, a laposság és a testreszabható gázút-konfiguráció terén.

Páratlan tisztaság:

Szennyeződések eltávolítása: Minden porózus kerámia vákuumtokmányt 1200°C-on 1,5 órán keresztül szinterelnek, hogy teljesen eltávolítsák a szennyeződéseket és biztosítsák, hogy a felület olyan tiszta legyen, mint az új.

Vákuumos csomagolás: A tiszta állapot fenntartása érdekében a porózus kerámia vákuumtokmány vákuumcsomagolásban van, hogy megakadályozza a tárolás és a szállítás során a szennyeződést.

Kiváló laposság:

Szilárd ostya adszorpciója: A porózus kerámia vákuumtokmány -60 kPa és -70 kPa adszorpciós erőt tart fenn az ostya felhelyezése előtt, illetve után, biztosítva, hogy az ostya szilárdan felszívódjon, és megakadályozza, hogy leessen a nagy sebességű átvitel során.

Precíziós megmunkálás: A hordozó hátulja precíziós megmunkálású, hogy teljesen sík felületet biztosítson, ezáltal megőrizze a stabil vákuumtömítést és megakadályozza a szivárgást.

Egyedi tervezés:

Ügyfélközpontú: A Vetek Semiconductor szorosan együttműködik az ügyfelekkel, hogy olyan gázút-konfigurációkat tervezzenek, amelyek megfelelnek az adott folyamat követelményeinek a hatékonyság és a teljesítmény optimalizálása érdekében.

Szigorú minőségi tesztelés:

A Vetek átfogó vizsgálatokat végez a porózus SiC vákuum tokmány minden egyes darabján, hogy biztosítsa annak minőségét:

Oxidációs teszt: A SiC vákuumos tokmány gyorsan 900°C-ra melegszik fel oxigénmentes környezetben, hogy szimulálja a tényleges oxidációs folyamatot. Ezt megelőzően a hordozót 1100 °C-on izzítják az optimális teljesítmény biztosítása érdekében.

Fémmaradék teszt: A szennyeződés megelőzése érdekében a hordozót magas, 1200°C-os hőmérsékletre melegítik, hogy észleljék, nem csapódott-e ki fémszennyeződés.

Vákuum teszt: A porózus SiC vákuumtokmány közötti nyomáskülönbség mérésével ostyával és anélkül a vákuumtömítési teljesítményét szigorúan teszteljük. A nyomáskülönbséget ±2kPa-on belül kell szabályozni.