2024-08-15
A TaC Coating (tantál-karbid bevonat) egy nagy teljesítményű bevonóanyag, amelyet kémiai gőzleválasztási (CVD) eljárással állítanak elő. A TaC bevonat extrém körülmények között kitűnő tulajdonságainak köszönhetően széles körben használják a félvezető gyártási folyamatokban, különösen olyan berendezésekben és alkatrészekben, amelyek magas hőmérsékletet és erős korrozív környezetet igényelnek. A TaC bevonatot általában az aljzatok (például grafit vagy kerámia) védelmére használják a magas hőmérséklet, a korrozív gázok és a mechanikai kopás okozta sérülésektől.
A termék jellemzői és előnyei
Rendkívül magas hőstabilitás:
Jellemző leírása: A TaC bevonat olvadáspontja meghaladja a 3880 °C-ot, és rendkívül magas hőmérsékletű környezetben is képes megőrizni a stabilitást bomlás vagy deformáció nélkül.
Előny: Ez nélkülözhetetlen anyaggá teszi a magas hőmérsékletű félvezető berendezésekben, mint például a CVD TaC Coating és a TaC Coated Susceptor, különösen a MOCVD reaktorokban, mint például az Aixtron G5 berendezésekben.
Kiváló korrózióállóság:
Funkció leírása: A TaC rendkívül erős kémiai tehetetlenséggel rendelkezik, és hatékonyan ellenáll a korrozív gázok, például kloridok és fluoridok eróziójának.
Előnyök: Az erősen korrozív vegyi anyagokat tartalmazó félvezető eljárásokban a TaC bevonat megvédi a berendezés alkatrészeit a vegyi támadásoktól, meghosszabbítja az élettartamot és javítja a folyamat stabilitását, különösen a szilícium-karbid ostyahajó és más kulcsfontosságú alkatrészek alkalmazásakor.
Kiváló mechanikai keménység:
Funkció leírása: A TaC bevonat keménysége 9-10 Mohs, ami ellenáll a mechanikai kopásnak és a magas hőmérsékleti igénybevételnek.
Előny: A nagy keménységi tulajdonság miatt a TaC bevonat különösen alkalmas magas kopású és nagy igénybevételű környezetben történő használatra, biztosítva a berendezések hosszú távú stabilitását és megbízhatóságát zord körülmények között is.
Alacsony kémiai reakcióképesség:
Funkció leírása: Kémiai tehetetlenségének köszönhetően a TaC Coating alacsony reakcióképességet képes fenntartani magas hőmérsékletű környezetben, és elkerüli a reaktív gázokkal való szükségtelen kémiai reakciókat.
Előny: Ez különösen fontos a félvezető gyártási folyamatban, mert biztosítja a folyamat környezetének tisztaságát és az anyagok kiváló minőségű lerakódását.
A TaC Coating szerepe a félvezető feldolgozásban
A berendezés kulcsfontosságú alkatrészeinek védelme:
A funkció leírása: A TaC bevonatot széles körben használják a félvezetőgyártó berendezések kulcsfontosságú alkatrészeiben, mint például a TaC Coated Susceptor, amelyeknek extrém körülmények között kell működniük. A TaC bevonattal ezek az alkatrészek hosszú ideig működhetnek magas hőmérsékletű és korrozív gázkörnyezetben anélkül, hogy megsérülnének.
A berendezés élettartamának meghosszabbítása:
Funkció leírása: Az olyan MOCVD berendezésekben, mint az Aixtron G5, a TaC bevonat jelentősen javíthatja a berendezés alkatrészeinek tartósságát, és csökkentheti a berendezés karbantartásának és cseréjének szükségességét a korrózió és kopás miatt.
Növelje a folyamat stabilitását:
Funkció leírása: A félvezetőgyártásban a TaC Coating biztosítja a leválasztási folyamat egyenletességét és konzisztenciáját, stabil magas hőmérsékletű és kémiai környezetet biztosítva. Ez különösen fontos az epitaxiális növekedési folyamatokban, mint például a szilícium epitaxia és a gallium-nitrid (GaN).
A folyamat hatékonyságának javítása:
Funkció leírása: A berendezés felületén lévő bevonat optimalizálásával a TaC Coating javíthatja a folyamat általános hatékonyságát, csökkentheti a hibaarányt és növelheti a termékhozamot. Ez kritikus fontosságú a nagy pontosságú, nagy tisztaságú félvezető anyagok gyártásához.
A nagy hőstabilitás, a kiváló korrózióállóság, a mechanikai keménység és a félvezető feldolgozás során a TaC Coating alacsony kémiai reakcióképessége ideális választássá teszi a félvezető gyártó berendezések alkatrészeinek védelmére. Mivel a félvezetőipar magas hőmérsékletű, nagy tisztaságú és hatékony gyártási folyamatok iránti igénye folyamatosan növekszik, a TaC Coating széles körű alkalmazási kilátásokkal rendelkezik, különösen a CVD TaC bevonatot, a TaC bevonatú szuszceptort és az Aixtron G5-öt magában foglaló berendezésekben és folyamatokban.
A VeTek Semiconductor Technology Co., LTD a fejlett bevonóanyagok vezető szállítója a félvezetőipar számára. cégünk az iparág legmodernebb megoldásainak fejlesztésére összpontosít.
Fő termékkínálatunk a CVD szilícium-karbid (SiC) bevonatok, tantál-karbid (TaC) bevonatok, ömlesztett SiC, SiC porok és nagy tisztaságú SiC anyagok, SiC bevonatú grafit szuszceptor, előmelegítő gyűrűk, TaC bevonatú elterelő gyűrű, félhold alkatrészek stb. ., a tisztaság 5 ppm alatt van, megfelel az ügyfelek igényeinek.
A VeTek félvezető az élvonalbeli technológiai és termékfejlesztési megoldások fejlesztésére összpontosít a félvezetőipar számára.Őszintén reméljük, hogy hosszú távú partnere leszünk Kínában.