Termékek

A VeTek egy professzionális gyártó és szállító Kínában. Üzemünk szénszálas, szilícium-karbid kerámiát, szilícium-karbid epitaxiát stb. kínál. Ha termékeink felkeltették érdeklődését, érdeklődjön most, és mi azonnal felvesszük Önnel a kapcsolatot.

View as

Háromszirmú grafittégely

A VeTek Semiconductor háromsziromú grafittégelye egy speciális tartály, amelyet félvezető anyagok hőkezelésére terveztek, különösen egykristályok előállítására. Létfontosságú szerepet játszik a félvezető eszközök gyártásához szükséges egykristályos szerkezetek növekedésének szabályozásában. A VeTek Semiconductor's alig várja, hogy hosszú távú partnere lehessen Kínában.

Olvass tovább Kérdés küldése

Ultra tiszta grafit alsó félhold

A VeTek Semiconductor a személyre szabott Ultra Pure Graphite Lower Halfmoon vezető szállítója Kínában, sok éve a fejlett anyagokra szakosodott. Az Ultra Pure Graphite Lower Halfmoonunkat kifejezetten SiC epitaxiális berendezésekhez tervezték, kiváló teljesítményt biztosítva. Ultratiszta import grafitból készült, így megbízható és tartós. Látogasson el kínai gyárunkba, hogy első kézből fedezze fel kiváló minőségű Ultra Pure Graphite Lower Halfmoon termékünket.

Olvass tovább Kérdés küldése

Felső Halfmoon rész SiC bevonattal

A VeTek Semiconductor a testre szabott Upper Halfmoon Part SiC bevonatú vezető szállítója Kínában, fejlett anyagokra szakosodott több mint 20 éve. A VeTek Semiconductor Upper Halfmoon Part SiC bevonattal kifejezetten SiC epitaxiális berendezésekhez tervezték, és a reakciókamra döntő komponenseként szolgál. Ultratiszta, félvezető minőségű grafitból készült, így kiváló teljesítményt biztosít. Meghívjuk Önt, hogy látogassa meg kínai gyárunkat.

Olvass tovább Kérdés küldése

Szilícium-karbid epitaxiás ostyahordozó

A VeTek Semiconductor a vezető, személyre szabott szilícium-karbid epitaxiás lapka hordozó szállítója Kínában. Több mint 20 éve specializálódtunk fejlett anyagokra. Szilícium-karbid epitaxiás ostyahordozót kínálunk SiC szubsztrátum szállítására, SiC epitaxiális réteg növekedésére SiC epitaxiális reaktorban. Ez a szilícium-karbid epitaxiás ostyahordozó a félhold rész fontos SiC bevonatú része, magas hőmérséklet-állóság, oxidációállóság és kopásállóság. Üdvözöljük, hogy látogassa meg gyárunkat Kínában.

Olvass tovább Kérdés küldése

Nagy tisztaságú porózus grafit

A VeTek Semiconductor által biztosított nagy tisztaságú porózus grafit egy fejlett félvezető-feldolgozó anyag. Nagy tisztaságú szén anyagból készült, kiváló hővezető képességgel, jó kémiai stabilitással és kiváló mechanikai szilárdsággal. Ez a nagy tisztaságú porózus grafit fontos szerepet játszik az egykristályos SiC növekedési folyamatában. A VeTek Semiconductor elkötelezett amellett, hogy minőségi termékeket kínáljon versenyképes áron, és alig várja, hogy hosszú távú partnere legyen Kínában.

Olvass tovább Kérdés küldése

SiC bevonatú MOCVD szuszceptor

A VeTek Semiconductor SiC bevonatú MOCVD Susceptor egy kiváló eljárással, tartóssággal és megbízhatósággal rendelkező eszköz. Ellenállnak a magas hőmérsékletnek és vegyi környezetnek, megőrzik a stabil teljesítményt és a hosszú élettartamot, ezáltal csökkentik a csere és karbantartás gyakoriságát, és javítják a termelés hatékonyságát. MOCVD epitaxiális szuszceptorunk nagy sűrűségéről, kiváló síkságáról és kiváló hőszabályozásáról híres, így ez az előnyben részesített berendezés a zord gyártási környezetekben. Várom, hogy együttműködhessünk Önnel.

Olvass tovább Kérdés küldése

<...28 29 30 31 32...36 >