SiC zuhanyfej

Biztos lehet benne, hogy SiC zuhanyfejet vásárol gyárunkból.

A szilícium-karbid anyagok a kiváló termikus, elektromos és kémiai tulajdonságok egyedülálló kombinációjával rendelkeznek, így ideálisak a félvezetőiparban történő alkalmazásokhoz, ahol nagy teljesítményű anyagokra van szükség.

A VeTek Semiconductor forradalmi technológiája lehetővé teszi a SiC Shower Head gyártását, amely egy ultra-nagy tisztaságú szilícium-karbid anyag, amelyet kémiai gőzleválasztási eljárással hoztak létre.

A SiC zuhanyfej a félvezetőgyártás kulcsfontosságú eleme, kifejezetten MOCVD-rendszerekhez, szilícium-epitaxiához és SiC-epitaxiás folyamatokhoz tervezték. A robusztus szilícium-karbidból (SiC) készült alkatrész ellenáll a plazmafeldolgozás szélsőséges körülményeinek és a magas hőmérsékletű alkalmazásoknak.

A szilícium-karbid (SiC) magas hővezető képességéről, kémiai korrózióállóságáról és kivételes mechanikai szilárdságáról ismert, így ideális anyag az ömlesztett SiC alkatrészekhez, például a SiC zuhanyfejhez. A gázzuhanyfej biztosítja a folyamatgázok egyenletes eloszlását az ostya felületén, ami elengedhetetlen a jó minőségű epitaxiális rétegek előállításához. A gyakran CVD-SiC-ből készült fókuszgyűrűk és élgyűrűk egyenletes plazmaeloszlást biztosítanak, és megvédik a kamrát a szennyeződéstől, növelve az epitaxiális növekedés hatékonyságát és hozamát.

Pontos gázáramlás-szabályozásával és kiemelkedő anyagtulajdonságaival a SiC zuhanyfej kulcsfontosságú eleme a modern félvezető-feldolgozásnak, amely támogatja a szilícium-epitaxia és a SiC-epitaxia fejlett alkalmazásait.

A VeTek Semiconductor alacsony ellenállású szinterezett szilícium-karbid félvezető zuhanyfejet kínál. Képesek vagyunk egyedi mérnökök tervezésére és fejlett kerámia anyagok szállítására, számos egyedi képesség felhasználásával.

A SiC zuhanyfej termékparaméterei:

Gyártóüzlet