Mint a diffúziós kemence berendezések vezető gyártója és szállítója Kínában, a VeTek Semiconductor SiC Diffusion Furnace Tube jelentősen magas hajlítószilárdsággal, kiváló oxidációállósággal, korrózióállósággal, magas kopásállósággal és kiváló magas hőmérsékletű mechanikai tulajdonságokkal rendelkezik. A diffúziós kemence alkalmazásokban nélkülözhetetlen felszerelési anyaggá téve. A VeTek Semiconductor elkötelezett a kiváló minőségű SiC diffúziós kemencecső gyártása és szállítása mellett, és üdvözli további kérdéseit.
A SiC diffúziós kemencecső működési vázlata
A VeTek Semiconductor SiC diffúziós kemencecső a következő termékelőnyökkel rendelkezik:
Kiváló magas hőmérsékletű mechanikai tulajdonságok: A SiC diffúziós kemencecső a legjobb magas hőmérsékletű mechanikai tulajdonságokkal rendelkezik az ismert kerámia anyagok közül, beleértve a kiváló szilárdságot és kúszásállóságot. Ez különösen alkalmassá teszi az olyan alkalmazásokhoz, amelyek hosszú távú stabilitást igényelnek magas hőmérsékleten.
Kiváló oxidációállóság: A VeTek Semiconductor SiC diffúziós kemencecső kiváló oxidációs ellenállással rendelkezik, a legjobb az összes nem-oxid kerámia közül. Ez a tulajdonság hosszú távú stabilitást és teljesítményt biztosít magas hőmérsékletű környezetben, csökkenti a károsodás kockázatát és meghosszabbítja a cső élettartamát.
● Nagy hajlítószilárdság: A VeTekSemi SiC diffúziós kemencecső hajlítószilárdsága meghaladja a 200 MPa-t, amely kiváló mechanikai tulajdonságokat és szerkezeti integritást biztosít a félvezetőgyártási folyamatokra jellemző nagy igénybevételi feltételek mellett.
● Kiváló korrózióállóságe: A SiC Furnace Tube kémiai tehetetlensége kiváló korrózióállóságot biztosít, így ezek a csövek ideálisak a félvezető feldolgozás során gyakran előforduló durva kémiai környezetben való használatra.
● Nagy kopásállóság: A SiC csöves kemencék erős kopásállósággal rendelkeznek, ami elengedhetetlen a méretstabilitás megőrzéséhez és a karbantartási igények csökkentéséhez, ha hosszú ideig koptató körülmények között használják.
● CVD bevonattal: A VeTek félvezető kémiai gőzleválasztásos (CVD) sic bevonat tisztasági szintje nagyobb, mint 99,9995, szennyeződéstartalma kevesebb, mint 5 ppm, a káros fémszennyeződések pedig 1 ppm-nél kisebbek. A CVD bevonási eljárás biztosítja, hogy a cső megfeleljen a szigorú 2-3 Torr vákuumtömörségi követelménynek, ami kritikus fontosságú a nagy pontosságú félvezetőgyártási környezetekben.
● Alkalmazás diffúziós kemencékben: Ezeket a sic csöveket félvezető diffúziós kemencékhez tervezték, ahol kulcsszerepet játszanak a magas hőmérsékletű folyamatokban, mint például az adalékolás és az oxidáció. Fejlett anyagtulajdonságaik biztosítják, hogy kibírják e folyamatok zord körülményeit, ezáltal javítva a félvezetőgyártás hatékonyságát és megbízhatóságát.
A VeTek Semiconductor régóta elkötelezett amellett, hogy fejlett technológiai és termékmegoldásokat biztosítson a félvezetőipar számára, és támogatja a professzionális testreszabott szolgáltatásokat. A VeTek Semiconductor SiC diffúziós kemencecsövet választva kiváló teljesítményű és nagy megbízhatóságú terméket kap, amely megfelel a modern félvezetőgyártás különféle igényeinek. Őszintén reméljük, hogy hosszú távú partnere lehetünk Kínában.
VeTek Semiconductor SiC Diffusion Furnace Tube termékek üzletei: