Szilikon talapzat

A VeTek Semiconductor Silicon Talapzat kulcsfontosságú eleme a félvezető diffúziós és oxidációs folyamatoknak. A szilícium csónakok magas hőmérsékletű kemencékben való szállítására szolgáló dedikált platformként a szilícium talapzat számos egyedi előnnyel rendelkezik, beleértve a jobb hőmérséklet egyenletességet, az optimalizált lapkaminőséget és a félvezető eszközök jobb teljesítményét. További termékinformációkért forduljon hozzánk bizalommal.

Kérdés küldése

termékleírás

A VeTek Semiconductor szilícium szuszceptor egy tiszta szilícium termék, amelyet arra terveztek, hogy biztosítsa a hőmérséklet stabilitását a termikus reaktor csövében a szilícium lapka feldolgozása során, ezáltal javítva a hőszigetelés hatékonyságát. A szilícium lapka feldolgozása rendkívül precíz folyamat, és a hőmérséklet döntő szerepet játszik, közvetlenül befolyásolva a szilícium ostyafilm vastagságát és egyenletességét.

A szilícium talapzat a kemence termikus reaktorcsőjének alsó részében található, megtámasztva a szilíciumotostyahordozómiközben hatékony hőszigetelést biztosít. A folyamat végén a szilícium lapkahordozóval együtt fokozatosan lehűl környezeti hőmérsékletre.

A VeTek félvezető szilícium talapzatok alapvető funkciói és előnyei:

Biztosítson stabil támogatást a folyamat pontosságának biztosítása érdekében

A szilícium talapzat stabil és rendkívül hőálló támasztófelületet biztosít a szilíciumhajónak a magas hőmérsékletű kemencekamrában. Ez a stabilitás hatékonyan megakadályozhatja a szilícium csónak elmozdulását vagy megdöntését a feldolgozás során, elkerülve ezzel a légáramlás egyenletességét vagy a hőmérséklet-eloszlás tönkretételét, biztosítva a folyamat nagy pontosságát és következetességét.

Növelje a hőmérséklet egyenletességét a kemencében és javítsa az ostya minőségét

Azáltal, hogy a szilícium csónakot elszigeteli a kemence fenekével vagy falával való közvetlen érintkezéstől, a szilícium alap csökkentheti a vezetés által okozott hőveszteséget, ezáltal egyenletesebb hőmérséklet-eloszlást érhet el a termikus reakciócsőben. Ez az egyenletes termikus környezet elengedhetetlen az ostya diffúziójának és oxidrétegének egyenletességének eléréséhez, ami nagymértékben javítja az ostya általános minőségét.

Optimalizálja a hőszigetelési teljesítményt és csökkenti az energiafogyasztást

A szilícium alapanyag kiváló hőszigetelő tulajdonságai hozzájárulnak a kemencekamra hőveszteségének csökkentéséhez, ezáltal jelentősen javítva a folyamat energiahatékonyságát. Ez a hatékony hőszabályozási mechanizmus nemcsak felgyorsítja a fűtési és hűtési ciklust, hanem csökkenti az energiafogyasztást és az üzemeltetési költségeket is, így gazdaságosabb megoldást kínál a félvezetőgyártáshoz.

A VeTek Semiconductor Silicon Talapzat specifikációi

Termék felépítése	Integrált, hegesztés
Vezetőképes típus/dopping	Szokás
Ellenállás	Alacsony ellenállás (pl. <0,015, <0,02...). ;
	Mérsékelt ellenállás (E.G.1-4);
	nagy ellenállás (például 60-90);
	Ügyfél testreszabása
Anyag típusa	Polikristály/Single Crystal
Kristály orientáció	Testreszabott