A VeTek Semiconductor előnnyel és tapasztalattal rendelkezik a MOCVD Technology alkatrészek terén.
A MOCVD, a Metal-Organic Chemical Vapor Deposition (metal-organic Chemical Vapor Deposition) teljes neve fém-szerves gőzfázisú epitaxiának is nevezhető. A fémorganikus vegyületek a fém-szén kötésekkel rendelkező vegyületek egy osztálya. Ezek a vegyületek legalább egy kémiai kötést tartalmaznak egy fém és egy szénatom között. A fém-szerves vegyületeket gyakran használják prekurzorként, és különféle leválasztási technikákkal vékony filmeket vagy nanostruktúrákat képezhetnek a hordozón.
A fém-szerves kémiai gőzleválasztás (MOCVD technológia) egy általános epitaxiális növekedési technológia, a MOCVD technológiát széles körben használják félvezető lézerek és ledek gyártásában. Különösen a LED-ek gyártása során a MOCVD kulcsfontosságú technológia a gallium-nitrid (GaN) és a kapcsolódó anyagok előállításához.
Az epitaxiának két fő formája van: folyadékfázisú epitaxia (LPE) és gőzfázisú epitaxia (VPE). A gázfázisú epitaxia tovább osztható fém-szerves kémiai gőzleválasztásra (MOCVD) és molekuláris sugár-epitaxiára (MBE).
A külföldi berendezésgyártókat elsősorban az Aixtron és a Veeco képviseli. A MOCVD rendszer a lézerek, LED-ek, fotoelektromos alkatrészek, teljesítmény-, rádiófrekvenciás eszközök és napelemek gyártásának egyik kulcsfontosságú berendezése.
A cégünk által gyártott MOCVD technológiás alkatrészek főbb jellemzői:
1) Nagy sűrűség és teljes kapszulázottság: a grafit alap egésze magas hőmérsékletű és korrozív munkakörnyezetben van, a felületet teljesen be kell csomagolni, és a bevonatnak jó sűrűségűnek kell lennie, hogy jó védő szerepet töltsön be.
2) Jó felületi síkság: Mivel az egykristály növesztéshez használt grafit alap nagyon nagy felületi síkságot igényel, a bevonat elkészítése után meg kell őrizni az alap eredeti síkságát, vagyis a bevonórétegnek egyenletesnek kell lennie.
3) Jó kötési szilárdság: Csökkentse a hőtágulási együttható különbségét a grafit alap és a bevonóanyag között, ami hatékonyan javíthatja a kettő közötti kötési szilárdságot, és a bevonatot nem könnyű megrepedni magas és alacsony hőmérsékletű hőhatás után. ciklus.
4) Magas hővezető képesség: a jó minőségű forgács növekedéséhez a grafit alapnak gyors és egyenletes hőt kell biztosítania, ezért a bevonóanyagnak magas hővezető képességgel kell rendelkeznie.
5) Magas olvadáspont, magas hőmérsékletű oxidációs ellenállás, korrózióállóság: a bevonatnak stabilan kell működnie magas hőmérsékleten és korrozív munkakörnyezetben.
Helyezzen 4 hüvelykes hordozót
Kék-zöld epitaxia a LED növekedéséhez
A reakciókamrában van elhelyezve
Közvetlen érintkezés az ostyával Helyezzen 4 hüvelykes hordozót
UV LED-es epitaxiális film termesztésére szolgál
A reakciókamrában van elhelyezve
Közvetlen érintkezés az ostyával Veeco K868/Veeco K700 gép
Fehér LED-epitaxia/Kék-zöld LED-epitaxia VEECO berendezésekben használatos
MOCVD epitaxiához
SiC bevonatú szuszceptor Aixtron TS berendezések
Mély ultraibolya epitaxia
2 hüvelykes szubsztrát Veeco berendezések
Piros-sárga LED-epitaxia
4 hüvelykes Wafer szubsztrát TaC bevonatú szuszceptor
(SiC Epi/UV LED vevő) SiC bevonatú szuszceptor
(ALD/Si Epi/LED MOCVD szuszceptor)
A Vetek Semiconductor a CVD SiC bevonat és a CVD TaC bevonat kutatására, fejlesztésére és iparosítására összpontosít. Példaként a SiC bevonatú szuszceptort tekintve a termék nagymértékben megmunkált nagy pontosságú, sűrű CVD SIC bevonattal, magas hőmérséklettel és erős korrózióállósággal. Szívesen fogadjuk a velünk kapcsolatos érdeklődést.
Olvass továbbKérdés küldéseA VeTek Semiconductor, a CVD SiC bevonatok vezető gyártója SiC bevonatkészlet lemezt kínál az Aixtron MOCVD reaktorokban. Ezek a SiC Coating Set lemezek nagy tisztaságú grafitból készültek, és CVD SiC bevonattal rendelkeznek, 5 ppm alatti szennyeződéssel. Örömmel fogadjuk a termékkel kapcsolatos kérdéseket.
Olvass továbbKérdés küldéseA VeTek Semiconductor, a jó hírű CVD SiC bevonatgyártó bemutatja az élvonalbeli SiC Coating Collector Centert az Aixtron G5 MOCVD rendszerben. Ezeket a SiC Coating Collector Centereket aprólékosan nagy tisztaságú grafittal tervezték, és fejlett CVD SiC bevonattal büszkélkedhetnek, amely magas hőmérsékleti stabilitást, korrózióállóságot és nagy tisztaságot biztosít. Várjuk az együttműködést!
Olvass továbbKérdés küldéseÜdvözöljük a VeTek Semiconductornál, a CVD SiC bevonatok megbízható gyártójában. Büszkék vagyunk az Aixtron SiC Coating Collector Top kínálatára, amelyeket szakszerűen terveztek nagy tisztaságú grafit felhasználásával, és a legmodernebb CVD SiC bevonattal rendelkeznek, 5 ppm alatti szennyeződéssel. Bármilyen kérdéssel vagy kérdéssel forduljon hozzánk bizalommal
Olvass továbbKérdés küldéseA CVD SiC bevonatok gyártásában szerzett szakértelmünkkel a VeTek Semiconductor büszkén mutatja be az Aixtron SiC Coating Collector Bottom terméket. Ezek a SiC Coating Collector Bottom nagy tisztaságú grafitból készültek, és CVD SiC-vel vannak bevonva, így biztosítva az 5 ppm alatti szennyeződést. Bővebb információval és kérdéssel forduljon hozzánk bizalommal.
Olvass továbbKérdés küldéseA VeTek Semiconductornál a CVD SiC bevonat és a CVD TaC bevonat kutatására, fejlesztésére és iparosítására szakosodunk. Példaértékű termék a SiC Coating Cover Segments Inner, amely kiterjedt feldolgozáson megy keresztül, hogy rendkívül pontos és sűrűn bevont CVD SiC felületet kapjon. Ez a bevonat rendkívül ellenálló a magas hőmérsékletekkel szemben, és erős korrózióvédelmet nyújt. Bármilyen kérdés esetén forduljon hozzánk bizalommal.
Olvass továbbKérdés küldése