Kína Szilícium-karbid bevonat Gyártó, szállító, gyár

A VeTek Semiconductor ultratiszta szilícium-karbid bevonat termékek gyártására specializálódott, ezeket a bevonatokat tisztított grafiton, kerámián és tűzálló fém alkatrészeken való felhordásra tervezték.

Nagy tisztaságú bevonataink elsősorban a félvezető- és elektronikai iparban való használatra készültek. Védőrétegként szolgálnak az ostyahordozók, szuszceptorok és fűtőelemek számára, megóvva őket a korrozív és reaktív környezetektől, amelyek olyan folyamatokban fordulnak elő, mint a MOCVD és az EPI. Ezek a folyamatok az ostyafeldolgozás és az eszközgyártás szerves részét képezik. Ezenkívül bevonataink jól alkalmazhatók vákuumkemencékben és mintamelegítésben, ahol nagy vákuum, reaktív és oxigén környezettel találkozhatunk.

A VeTek Semiconductornál átfogó megoldást kínálunk fejlett gépműhelyi képességeinkkel. Ez lehetővé teszi számunkra, hogy az alapelemeket grafitból, kerámiából vagy tűzálló fémekből állítsuk elő, és házon belül vigyük fel a SiC vagy TaC kerámiabevonatokat. Az ügyfelek által szállított alkatrészekhez bevonási szolgáltatásokat is nyújtunk, biztosítva a rugalmasságot a különféle igények kielégítésére.

Szilícium-karbid bevonat termékeinket széles körben használják Si-epitaxiában, SiC-epitaxiában, MOCVD-rendszerben, RTP/RTA-folyamatban, maratási folyamatban, ICP/PSS-maratási folyamatban, különféle LED-típusok folyamatában, beleértve a kék és zöld LED-eket, az UV LED-eket és a mély-UV-t. LED stb., amely az LPE, Aixtron, Veeco, Nuflare, TEL, ASM, Annealsys, TSI és így tovább berendezésekhez van igazítva.

A reaktor alkatrészei, amelyeket elkészíthetünk:

A szilícium-karbid bevonatnak számos egyedi előnye van:

Silicon Carbide Coating several unique advantages

VeTek félvezető szilícium-karbid bevonat paraméterei:

A CVD SiC bevonat alapvető fizikai tulajdonságai
Ingatlan	Tipikus érték
Kristályszerkezet	FCC β fázisú polikristályos, főleg (111) orientált
Sűrűség	3,21 g/cm³
Keménység	2500 Vickers keménység (500 g terhelés)
szemcseméret	2~10μm
Kémiai tisztaság	99,99995%
Hőkapacitás	640 J·kg-1·K-1
Szublimációs hőmérséklet	2700 ℃
Hajlító szilárdság	415 MPa RT 4 pontos
Young's Modulus	430 Gpa 4pt kanyar, 1300 ℃
Hővezetőképesség	300W·m-1·K-1
Hőtágulás (CTE)	4,5×10-6K-1

SEM data and structure of CVD SIC films

View as

SiC bevonatú ostyahordozó

Professzionális SiC bevonatú lapkahordozó gyártóként és beszállítóként Kínában, a Vetek Semiconductor SiC bevonatú ostyahordozóit elsősorban az epitaxiális réteg növekedési egyenletességének javítására használják, biztosítva azok stabilitását és integritását magas hőmérsékleten és korrozív környezetben. Várom érdeklődését.

Olvass tovább Kérdés küldése

ALD vevő

A VeTek Semiconductor az ALD Susceptor, CVD SiC bevonat, CVD TAC COATING grafitbázis professzionális gyártója Kínában. A Vetek Semiconductor az ALD rendszer gyártóival közösen fejlesztett és gyártott SiC bevonatú ALD bolygóbázisokat, hogy megfeleljen az ALD eljárás magas követelményeinek, és egyenletesen ossza el a légáramot az aljzaton. Várjuk a további együttműködést Önnel.

Olvass tovább Kérdés küldése

CVD SiC bevonatú mennyezet

Professzionális CVD SiC bevonatú mennyezetgyártóként és beszállítóként Kínában, a VeTek Semiconductor CVD SiC bevonatú mennyezete kiváló tulajdonságokkal rendelkezik, mint például a magas hőmérséklet-állóság, a korrózióállóság, a nagy keménység és az alacsony hőtágulási együttható, így ideális anyagválasztás a félvezetőgyártásban. Várjuk a további együttműködést Önnel.

Olvass tovább Kérdés küldése

MOCVD LED Epi szuszceptor

A VeTek Semiconductor a MOCVD LED Epi Susceptor, ALD Planetary Susceptor és TaC bevonatú grafit szuszceptor professzionális gyártója Kínában. A VeTek Semiconductor MOCVD LED Epi Susceptor-ját az igényes epitaxiális berendezésekhez tervezték. Magas hővezető képessége, kémiai stabilitása és tartóssága kulcsfontosságú tényezők a stabil epitaxiális növekedési folyamat és a kiváló minőségű félvezető filmgyártás biztosításához. Várjuk a további együttműködést Önnel.

Olvass tovább Kérdés küldése

SiC bevonatú ALD szuszceptor

Professzionális SiC bevonatú ALD szuszceptor gyártóként és szállítóként Kínában, a VeTek Semiconductor SiC bevonatú ALD szuszceptorja egy speciálisan az atomréteg-lerakódási (ALD) folyamatban használt támogató komponens. Kulcsszerepet játszik az ALD berendezésben, biztosítja a leválasztási folyamat egységességét és pontosságát. Hiszünk abban, hogy az ALD Planetary Susceptor termékeink kiváló minőségű termékmegoldásokat kínálnak Önnek.

Olvass tovább Kérdés küldése

SiC Coating Epi vevő

A VeTek Semiconductor a SiC Coating Epi Susceptor termékek vezető gyártója, megújítója és vezetője Kínában. Sok éve foglalkozunk különféle SiC bevonat termékekkel, mint például a SiC Coating Epi Susceptor, SiC Coating Wafer Carrier, SiC Coating Susceptor, SiC bevonatú ALD szuszceptor stb. A VeTek Semiconductor elkötelezett amellett, hogy fejlett technológiát és termékmegoldásokat biztosítson a félvezetők számára. ipar. Üdvözöljük további konzultációján.

Olvass tovább Kérdés küldése

<...5 6 7 8 9...16 >

Professzionális Szilícium-karbid bevonat gyártóként és beszállítóként Kínában saját gyárunk van. Ha személyre szabott szolgáltatásokra van szüksége régiója speciális igényeihez, vagy fejlett és tartós Kínában gyártott Szilícium-karbid bevonat terméket szeretne vásárolni, írjon nekünk.