Kína Szilícium-karbid bevonat Gyártó, szállító, gyár

A VeTek Semiconductor ultratiszta szilícium-karbid bevonat termékek gyártására specializálódott, ezeket a bevonatokat tisztított grafiton, kerámián és tűzálló fém alkatrészeken való felhordásra tervezték.

Nagy tisztaságú bevonataink elsősorban a félvezető- és elektronikai iparban való használatra készültek. Védőrétegként szolgálnak az ostyahordozók, szuszceptorok és fűtőelemek számára, megóvva őket a korrozív és reaktív környezetektől, amelyek olyan folyamatokban fordulnak elő, mint a MOCVD és az EPI. Ezek a folyamatok az ostyafeldolgozás és az eszközgyártás szerves részét képezik. Ezenkívül bevonataink jól alkalmazhatók vákuumkemencékben és mintamelegítésben, ahol nagy vákuum, reaktív és oxigén környezettel találkozhatunk.

A VeTek Semiconductornál átfogó megoldást kínálunk fejlett gépműhelyi képességeinkkel. Ez lehetővé teszi számunkra, hogy az alapelemeket grafitból, kerámiából vagy tűzálló fémekből állítsuk elő, és házon belül vigyük fel a SiC vagy TaC kerámiabevonatokat. Az ügyfelek által szállított alkatrészekhez bevonási szolgáltatásokat is nyújtunk, biztosítva a rugalmasságot a különféle igények kielégítésére.

Szilícium-karbid bevonat termékeinket széles körben használják Si-epitaxiában, SiC-epitaxiában, MOCVD-rendszerben, RTP/RTA-folyamatban, maratási folyamatban, ICP/PSS-maratási folyamatban, különféle LED-típusok folyamatában, beleértve a kék és zöld LED-eket, az UV LED-eket és a mély-UV-t. LED stb., amely az LPE, Aixtron, Veeco, Nuflare, TEL, ASM, Annealsys, TSI és így tovább berendezésekhez van igazítva.

A reaktor alkatrészei, amelyeket elkészíthetünk:

A szilícium-karbid bevonatnak számos egyedi előnye van:

Silicon Carbide Coating several unique advantages

VeTek félvezető szilícium-karbid bevonat paraméterei:

A CVD SiC bevonat alapvető fizikai tulajdonságai
Ingatlan	Tipikus érték
Kristályszerkezet	FCC β fázisú polikristályos, főleg (111) orientált
Sűrűség	3,21 g/cm³
Keménység	2500 Vickers keménység (500 g terhelés)
szemcseméret	2~10μm
Kémiai tisztaság	99,99995%
Hőkapacitás	640 J·kg-1·K-1
Szublimációs hőmérséklet	2700 ℃
Hajlító szilárdság	415 MPa RT 4 pontos
Young's Modulus	430 Gpa 4pt kanyar, 1300 ℃
Hővezetőképesség	300W·m-1·K-1
Hőtágulás (CTE)	4,5×10-6K-1

SEM data and structure of CVD SIC films

View as

CVD SiC bevonatú szoknya

A VeTek Semiconductor a CVD SiC Coating és a TAC Coating vezető gyártója, megújítója és vezetője Kínában. Hosszú évek óta foglalkozunk különféle CVD SiC bevonat termékekkel, mint például CVD SiC bevonatú szoknya, CVD SiC bevonatgyűrű, CVD SiC bevonathordozó stb. A VeTek Semiconductor támogatja a személyre szabott termékszolgáltatásokat és a kielégítő termékárakat, és várja további konzultációt.

Olvass tovább Kérdés küldése

UV LED Epi szuszceptor

A VeTek Semiconductor vezető kínai félvezető-termékgyártóként és -vezetőként a különféle típusú szuceptor termékekre összpontosít, mint például az UV LED Epi Susceptor, Deep-UV LED Epitaxial Susceptor, SiC Coating Susceptor, MOCVD Susceptor stb. A VeTek Semiconductor elkötelezett amellett, hogy fejlett technológiát és termékmegoldásokat biztosítson a félvezetőipar számára, és őszintén várjuk, hogy partnere lehessünk Kínában.

Olvass tovább Kérdés küldése

CVD SiC bevonat terelőlemez

A Vetek Semiconductor CVD SiC bevonat terelőlemezét főként a Si Epitaxiában használják. Általában szilícium hosszabbító hordókhoz használják. Egyesíti a CVD SiC Coating Baffle egyedülálló magas hőmérsékletét és stabilitását, ami nagymértékben javítja a légáramlás egyenletes eloszlását a félvezetőgyártás során. Hiszünk abban, hogy termékeink fejlett technológiát és kiváló minőségű termékmegoldásokat kínálnak Önnek.

Olvass tovább Kérdés küldése

CVD SiC grafit henger

A Vetek Semiconductor CVD SiC grafithengere kulcsfontosságú a félvezető berendezésekben, védőpajzsként szolgál a reaktorokban, hogy megóvja a belső alkatrészeket magas hőmérsékleten és nyomáson. Hatékonyan véd a vegyszerek és az extrém hőhatások ellen, megőrzi a berendezés épségét. Kivételes kopás- és korrózióállóságával hosszú élettartamot és stabilitást biztosít kihívásokkal teli környezetben. Ezeknek a burkolatoknak a használata javítja a félvezető eszközök teljesítményét, meghosszabbítja az élettartamot, valamint mérsékli a karbantartási igényeket és a károsodási kockázatokat.

Olvass tovább Kérdés küldése

CVD SiC bevonatfúvóka

A Vetek Semiconductor CVD SiC bevonatfúvókái az LPE SiC epitaxiás eljárásban használt kulcsfontosságú komponensek a félvezetőgyártás során a szilícium-karbid anyagok felhordására. Ezek a fúvókák jellemzően magas hőmérsékletű és kémiailag stabil szilícium-karbid anyagból készülnek, hogy biztosítsák a stabilitást kemény feldolgozási környezetben. Az egyenletes felhordásra tervezték, kulcsszerepet játszanak a félvezető alkalmazásokban termesztett epitaxiális rétegek minőségének és egyenletességének ellenőrzésében. Várjuk, hogy hosszú távú együttműködést alakítsunk ki Önnel.

Olvass tovább Kérdés küldése

CVD SiC bevonatvédő

A Vetek Semiconductor CVD SiC bevonatvédőt biztosít. A használt LPE SiC epitaxia. Az "LPE" kifejezés általában az alacsony nyomású kémiai gőzleválasztásban (LPCVD) alacsony nyomású epitaxiára (LPE) utal. A félvezetőgyártásban az LPE fontos folyamattechnológia az egykristály vékonyrétegek termesztésére, amelyet gyakran szilícium epitaxiális rétegek vagy más félvezető epitaxiális rétegek növesztésére használnak. További kérdéseivel forduljon hozzánk bizalommal.

Olvass tovább Kérdés küldése

<...6 7 8 9 10...16 >

Professzionális Szilícium-karbid bevonat gyártóként és beszállítóként Kínában saját gyárunk van. Ha személyre szabott szolgáltatásokra van szüksége régiója speciális igényeihez, vagy fejlett és tartós Kínában gyártott Szilícium-karbid bevonat terméket szeretne vásárolni, írjon nekünk.