CVD TaC bevonathordozó

A VeTek Semiconductor professzionális vezető kínai CVD TaC bevonathordozó, EPITAXY SUSCEPTOR, TaC bevonatú grafit szuszceptor gyártó.

A folyamatos folyamat- és anyaginnovációs kutatások révén a Vetek Semiconductor CVD TaC bevonathordozója nagyon kritikus szerepet játszik az epitaxiális folyamatban, főként a következő szempontokkal:

Aljzatvédelem: A CVD TaC bevonathordozó kiváló kémiai stabilitást és termikus stabilitást biztosít, hatékonyan megakadályozza, hogy a magas hőmérsékletű és korrozív gázok erodálják a hordozót és a reaktor belső falát, biztosítva a folyamat környezetének tisztaságát és stabilitását.

Termikus egyenletesség: A CVD TaC bevonathordozó magas hővezető képességével kombinálva biztosítja a hőmérséklet-eloszlás egyenletességét a reaktoron belül, optimalizálja az epitaxiális réteg kristályminőségét és vastagságának egyenletességét, valamint javítja a végtermék teljesítmény-konzisztenciáját.

Részecskeszennyeződés ellenőrzése: Mivel a CVD TaC bevonatú hordozók rendkívül alacsony részecskeképződéssel rendelkeznek, a sima felület tulajdonságai jelentősen csökkentik a részecskék szennyeződésének kockázatát, ezáltal javítva a tisztaságot és a hozamot az epitaxiális növekedés során.

A berendezés meghosszabbított élettartama: A CVD TaC bevonathordozó kiváló kopásállóságával és korrózióállóságával kombinálva jelentősen meghosszabbítja a reakciókamra alkatrészeinek élettartamát, csökkenti a berendezések állásidejét és karbantartási költségeit, valamint javítja a gyártás hatékonyságát.

A VeTek Semiconductor CVD TaC Coating hordozója a fenti jellemzőket ötvözve nemcsak a folyamat megbízhatóságát és a termék minőségét javítja az epitaxiális növekedési folyamatban, hanem költséghatékony megoldást is nyújt a félvezetőgyártáshoz.

A CVD TaC Coating Carrier fizikai tulajdonságai:

CVD SiC bevonat gyártó üzlet:

A félvezető chipek epitaxiás ipari láncának áttekintése: