itthon > Termékek > Tantál-karbid bevonat > SiC epitaxiás folyamat > Tantál-karbid bevonat burkolat
Tantál-karbid bevonat burkolat
  • Tantál-karbid bevonat burkolatTantál-karbid bevonat burkolat

Tantál-karbid bevonat burkolat

A VeTek Semiconductor a tantál-karbid bevonatburkolat vezető gyártója és megújítója Kínában. Nagy tisztaságú, magas hőmérsékletnek ellenálló tantál-karbid termékek biztosítására összpontosítunk. Tantál-karbid bevonatú burkolatunk kiváló teljesítménnyel és megbízhatósággal rendelkezik, és hatékonyan védi az anyagokat rendkívül magas hőmérsékleten és korrozív környezetben. Bízunk benne, hogy hosszú távú partnere lehetünk Kínában.

Kérdés küldése

termékleírás

A VeTek Semiconducto egy professzionális kínai tantál-karbid bevonat gyártó és szállító. Tantál-karbid bevonatborítónk a legújabb megoldást képviseli a kristálynövekedés és epitaxiás (epi) folyamatok termikus alkalmazásaiban. Ez a gondosan megmunkált, egyedi burkolat kritikus eleme a kristályképződés és az epitaxiális filmlerakódás fenntartásának.

A TaC Coated Graphite Cover maganyaga kiváló minőségű grafitból készül, amely kiváló hővezető képességéről és stabilitásáról ismert. A grafit szélsőséges hőmérsékleteknek ellenálló képessége ideális anyaggá teszi a termikus terepi alkalmazásokhoz, hosszú élettartamot és megbízhatóságot biztosítva az igényes környezetben.

A TaC Coated Graphite Cover egyedülálló tulajdonsága az innovatív tantál-karbid (TaC) bevonat. Ez a fejlett bevonat javítja a burkolat teljesítményét azáltal, hogy masszív védőréteget ad hozzá, és javítja a korrózióval, kopással és hősokkokkal szembeni ellenállást. A TaC bevonat nemcsak a burkolat szilárdságát növeli zord körülmények között, hanem javítja a hatékonyságot és meghosszabbítja annak élettartamát.

A kristálynövekedési folyamat során a TaC Coated Graphite Cover megkönnyíti a pontos hőmérsékletszabályozást és egyenletesen osztja el a hőt, olyan környezetet teremtve, amely alkalmas a kiváló minőségű kristályok képződésére. Ezenkívül az epitaxiás folyamat során történő alkalmazkodóképessége biztosítja a vékony filmek szabályozott lerakódását, ami kritikus a félvezető- és anyagtudományi alkalmazásokban.

Ez a gondosan megtervezett TaC bevonatú grafit kupak teljes mértékben demonstrálja a grafit belső tulajdonságai és a TaC bevonat által nyújtott fokozott képességek közötti szinergiát. Függetlenül attól, hogy laboratóriumokban, kutatóintézetekben vagy ipari környezetben használják, a TaC bevonatú grafitkupak a hőtechnológiai innováció modellje, megbízható és tartós megoldást kínál a kristálynövekedési és epitaxiás folyamatokhoz. A VeTek Semiconductor továbbra is elkötelezett amellett, hogy ügyfelei számára a legfejlettebb technológiai megoldásokat és átfogó támogatást nyújtsa.


A tantál-karbid bevonatburkolat termékparaméterei

A TaC bevonat fizikai tulajdonságai
Sűrűség 14,3 (g/cm³)
Fajlagos emissziós tényező 0.3
Hőtágulási együttható 6,3 10-6/K
Keménység (HK) 2000 HK
Ellenállás 1×10-5 Ohm*cm
Hőstabilitás <2500 ℃
A grafit mérete megváltozik -10-20um
Bevonat vastagsága ≥20um tipikus érték (35um±10um)


VeTek Félvezetőgyártó Bolt


A félvezető chipek epitaxiás ipari láncának áttekintése:


Hot Tags: Tantál-karbid bevonat burkolat, Kína, gyártó, szállító, gyári, testreszabott, vásárlás, fejlett, tartós, Kínában gyártott
Kapcsolódó kategória
Kérdés küldése
Kérdését az alábbi űrlapon adja meg. 24 órán belül válaszolunk.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept