Tantál-karbid TaC bevonatú Halfmoon

A VeTek Semiconductor a Tantál Carbide TaC Coated Halfmoon vezető gyártója és beszállítója Kínában, a kutatás-fejlesztésre és a gyártásra szakosodtunk, jól ellenőrizhetjük a minőséget és versenyképes árat kínálunk. Üdvözöljük, látogassa meg gyárunkat, ahol további megbeszéléseket folytathat a hosszú távú együttműködésről.

Kérdés küldése

termékleírás

A VeTek Semiconductor egy professzionális kínai tantál-karbid TaC bevonatú Halfmoon gyártó és szállító. A VeTek Semiconductor a Tantál Carbide TaC Coated Halfmoon-t kínálja, amely támasztó és szállító szerepet játszik a szilícium-karbid epitaxiális folyamatában, nemcsak megtámasztja az aljzatot, hanem sík alapot is biztosít, lehetővé téve az epitaxia egyenletes növekedését rajta.

A félhold rész minősége és teljesítménye közvetlenül befolyásolja az ostya minőségét és teljesítményét a szilícium-karbid epitaxiális folyamat során. Ezért a megfelelő félholdrész tervezése és kiválasztása kulcsfontosságú a SiC epitaxiális folyamat sikeréhez. A VeTek Semiconductor által gyártott Tantál Carbide TaC bevonatú félhold növelheti a magas hőmérséklet-, korrózió- és kopásállóságát, nagymértékben javítva a félhold komponens stabilitását és élettartamát a növekedési folyamat során.

A tantál-karbid bevonat paraméterei:

A TaC bevonat fizikai tulajdonságai
Sűrűség	14,3 (g/cm³)
Fajlagos emissziós tényező	0.3
Hőtágulási együttható	6,3 10-6/K
Keménység (HK)	2000 HK
Ellenállás	1×10-5 Ohm*cm
Hőstabilitás	<2500 ℃
A grafit mérete megváltozik	-10-20um
Bevonat vastagsága	≥20um tipikus érték (35um±10um)