Termékek

View as

CVD SiC bevonatú szoknya

A VeTek Semiconductor a CVD SiC Coating és a TAC Coating vezető gyártója, megújítója és vezetője Kínában. Hosszú évek óta foglalkozunk különféle CVD SiC bevonat termékekkel, mint például CVD SiC bevonatú szoknya, CVD SiC bevonatgyűrű, CVD SiC bevonathordozó stb. A VeTek Semiconductor támogatja a személyre szabott termékszolgáltatásokat és a kielégítő termékárakat, és várja további konzultációt.

Olvass tovább Kérdés küldése

CVD TaC bevonathordozó

A VeTek Semiconductor CVD TaC bevonathordozóját elsősorban a félvezetőgyártás epitaxiális folyamatához tervezték. A CVD TaC Coating hordozó ultramagas olvadáspontja, kiváló korrózióállósága és kiemelkedő termikus stabilitása meghatározza ennek a terméknek a félvezető epitaxiális folyamatában való nélkülözhetetlenségét. Őszintén reméljük, hogy hosszú távú üzleti kapcsolatot építhetünk ki Önnel.

Olvass tovább Kérdés küldése

CVD SiC bevonat terelőlemez

A Vetek Semiconductor CVD SiC bevonat terelőlemezét főként a Si Epitaxiában használják. Általában szilícium hosszabbító hordókhoz használják. Egyesíti a CVD SiC Coating Baffle egyedülálló magas hőmérsékletét és stabilitását, ami nagymértékben javítja a légáramlás egyenletes eloszlását a félvezetőgyártás során. Hiszünk abban, hogy termékeink fejlett technológiát és kiváló minőségű termékmegoldásokat kínálnak Önnek.

Olvass tovább Kérdés küldése

CVD SiC grafit henger

A Vetek Semiconductor CVD SiC grafithengere kulcsfontosságú a félvezető berendezésekben, védőpajzsként szolgál a reaktorokban, hogy megóvja a belső alkatrészeket magas hőmérsékleten és nyomáson. Hatékonyan véd a vegyszerek és az extrém hőhatások ellen, megőrzi a berendezés épségét. Kivételes kopás- és korrózióállóságával hosszú élettartamot és stabilitást biztosít kihívásokkal teli környezetben. Ezeknek a burkolatoknak a használata javítja a félvezető eszközök teljesítményét, meghosszabbítja az élettartamot, valamint mérsékli a karbantartási igényeket és a károsodási kockázatokat.

Olvass tovább Kérdés küldése

CVD SiC bevonat fúvóka

A Vetek Semiconductor CVD SiC bevonatfúvókái az LPE SiC epitaxiás eljárásban használt kulcsfontosságú komponensek a félvezetőgyártás során a szilícium-karbid anyagok felhordására. Ezek a fúvókák jellemzően magas hőmérsékletű és kémiailag stabil szilícium-karbid anyagból készülnek, hogy biztosítsák a stabilitást kemény feldolgozási környezetben. Az egyenletes felhordásra tervezték, kulcsszerepet játszanak a félvezető alkalmazásokban termesztett epitaxiális rétegek minőségének és egyenletességének ellenőrzésében. Várjuk, hogy hosszú távú együttműködést alakítsunk ki Önnel.

Olvass tovább Kérdés küldése

CVD SiC bevonatvédő

A Vetek Semiconductor CVD SiC bevonatvédőt biztosít. A használt LPE SiC epitaxia. Az "LPE" kifejezés általában az alacsony nyomású kémiai gőzleválasztásban (LPCVD) alacsony nyomású epitaxiára (LPE) utal. A félvezetőgyártásban az LPE fontos folyamattechnológia az egykristály vékonyrétegek termesztésére, amelyet gyakran szilícium epitaxiális rétegek vagy más félvezető epitaxiális rétegek növesztésére használnak. További kérdéseivel forduljon hozzánk bizalommal.

Olvass tovább Kérdés küldése

<1 2 3 4 >